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ULVAC-PHI 扫描聚焦X射线光电子能谱仪PHI Quantera II
基于PHI公司专利技术的扫描聚焦X射线源,最新一代技术可对从最 小7.5um到最大1.4mm的分析区域获得高灵敏度的分析结果。设备采用全自动化分析,可以轻松地对绝缘样品和半导体等样品达到自动中和效果。
日本平沼 测汞仪 HG-400/450 系列
通过更改与起泡器、反应容器和流路相关的设置,可以处理四种类型的测试溶液体积,配备气泵总运行时间,汞吸收柱总使用时间等丰富的维护支持。
日本平沼 全有机碳测定仪 TOC-2300/2350
TOC-2300/2350采用高强紫外线和强氧化剂双重配合氧化消解方式来消解样品,配置长期稳定的非分散红外检测器(NDIR),光照强、噪声低,抗干扰能力强,实现精准检测,具有高灵敏度、高性价比、易维护的特点。
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