极表面分析设备价格

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极表面分析设备

ULVAC-PHI 扫描聚焦X射线光电子能谱仪PHI Quantera II

基于PHI公司专利技术的扫描聚焦X射线源，最新一代技术可对从最小7.5um到最大1.4mm的分析区域获得高灵敏度的分析结果。设备采用全自动化分析，可以轻松地对绝缘样品和半导体等样品达到自动中和效果。

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ULVAC-PHI 扫描俄歇纳米探针 PHI 710

PHI 710使用CMA同轴分析器，同时实现高灵敏度和高传输率，即便在低电流高空间分辨率情况下都可轻松对应。拥有CMA所有优点同时，结合获得AVS设计奖的高能量分辨率功能，AES可以进行各种纳米级区域化学态分析。

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ULVAC-PHI 飞行时间型二次离子质谱仪PHI nano TOF II TRIFT 系列

三次聚焦分析仪适用于平面，不平整以及表面形貌复杂的样品，多种溅射离子枪实现三维成像的深度分析，SmartSoft-TOF软件使得样品分析操作更简单容易，并具有双束电荷中和（专利）。

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